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三塔式RTO蓄熱式焚燒爐在半導體制造業中的應用實踐

三塔式RTO蓄熱式焚燒爐在半導體制造業中的應用實踐摘要

2.1 背景某半導體制造企業在制程廢氣處理方面面臨挑戰,需要一種高效且環保的解決方案。2.2 應用細節應用領域半導體制造業制程廢氣處理廢氣類型制程廢氣、氣相污染物設備處理能力15,000 Nm3/h廢氣濃度100-800 ppm(波動)廢氣處理效率99%以上能源回收率94%以上運行時長每日20小時2.3 成功經驗高效廢氣處理: 三塔式RTO蓄熱式焚燒爐成功處理了半導體制造中復雜的氣相污染物,廢氣處

2.1 背景

某半導體制造企業在制程廢氣處理方面面臨挑戰,需要一種高效且環保的解決方案。

2.2 應用細節

應用領域半導體制造業制程廢氣處理
廢氣類型制程廢氣、氣相污染物
設備處理能力15,000 Nm3/h
廢氣濃度100-800 ppm(波動)
廢氣處理效率99%以上
能源回收率94%以上
運行時長每日20小時

2.3 成功經驗

  • 高效廢氣處理: 三塔式RTO蓄熱式焚燒爐成功處理了半導體制造中復雜的氣相污染物,廢氣處理效率維持在99%以上,確保了廢氣排放達標。

  • 能源高效利用: 設備能源回收率達到94%以上,通過回收廢氣中的熱能,為企業提供了額外的能源來源,降低了能源開支。

  • 穩定運行: 在每日20小時運行的情況下,設備表現出色,維持高效、穩定的運行狀態,為制程提供了可靠的廢氣處理解決方案。

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