半導體行業廢氣治理方案方案概述

半導體行業廢氣處理，按照其廢氣處理工藝分為：酸性廢氣處理（SEX）、堿性廢氣處理(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般排氣(GEX)等；其廢氣處理系統包括：酸性廢氣處理設備、堿性廢氣處理設備、有機廢氣處理設備等；酸、堿廢氣處理設備有：洗滌塔，又名噴淋塔、吸收塔；有機廢氣處理設備有：活性炭吸附裝置、直燃式熱氧化廢氣焚燒爐（TO）等。

方案特點

技術路線

1 活性炭 / 沸石+催化燃燒

凈化原理: 有機廢氣通過活性炭/沸石吸附飽和后，采用熱空氣進行脫附再生，脫附后的高濃度廢氣經催化燃燒排空。催化燃燒利用熱空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度廢氣，有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下于250~400℃之間催化氧化為CO2和H2O，并釋放大量的熱量，通過熱交換器對熱量進行再利用。

2 沸石轉筒+三塔式RTO

本技術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技術的組合工藝，凈化系統主要由三級干式過濾裝置、沸石轉輪濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控制系統組成。該組合技術通過沸石轉輪的吸附濃縮使大風量、低濃度有機廢氣濃縮為小風量、高濃度濃縮氣體，高濃度濃縮氣再經RTO高溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。